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华宇平台积电7 纳米 + 良率已与7 纳米十分,6 纳

 

 
 
芯片代工龙头台积电宣布,其抢先业界导入极紫外光 (EUV) 微影技术之7 纳米强效版 (N7+) 制程已辅佐客户产品大量进入市场。而导入 EUV 微影技术的 N7+ 制程奠基于台积电胜利的7 纳米制程之上,为6 纳米和更先进制程奠定良好根底。而6 纳米制程则将在2020 年第1 季正式进入量产。
 
台积电表示 N7 + 制程的量产速度为史上量产速度最快的制程之一,于2019 年第2 季开端量产,在7 纳米制程技术 (N7) 量产超越一年时间的状况下,N7+ 良率与 N7 已十分接近。而且,N7 + 制程同时提供了整体效能的提升,N7 + 的逻辑密度比 N7 进步了15% 至20%,华宇平台并同时降低了功耗,使其成为业界下一波产品中更受欢送的制程选择。台积电也快速布建产能以满足多个客户关于 N7 + 制程的需求。
 
台积电强调,EUV 微影技术使台积电可以持续推进芯片片微缩,因 EUV 的较短波长可以更圆满地解析先进制程的设计。台积电的 EUV 设备已达成熟消费的实力,EUV 设备机台也达大量消费的目的,在日常运作的输出功率都大于250 瓦。
 
台积电业务开发副总经理张晓强表示,华宇平台AI 和5G 的应用为芯片片设计开启了更多的可能,使其得以许多新的方式改恶人类生活。而台积电的客户充溢了创新及抢先的设计理念,需求台积电的技术和制造才能使其完成。台积电在 EUV 微影技术上的胜利,是台积电不只可以详细落实客户的抢先设计,同时凭仗杰出的制造才能,也能使其大量消费的另一个绝佳证明。
 
N7+ 制程的胜利经历是将来先进制程技术的基石。台积电的6 纳米制程技术 (N6) 将于2020 年第1 季进入试产,并于年底行进入量产。随着 EUV 微影技术的进一步应用,N6 制程的逻辑密度将比 N7 进步18%,而 N6 制程将凭仗着与 N7 完整相容的设计规律,也可大幅缩短客户产品上市的时间。
 
 

 

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